時(shí)間門控拉曼光譜儀在使用中，避免不了出現(xiàn)分析質(zhì)量的問題，具體因素有哪些，下面我們來分析下：
 

　　1、系統(tǒng)誤差的來源：
 

　　(1)標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。
 

　　(2)標(biāo)樣和試樣的物理性能不*相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
 

　　(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。
 

　　(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
 

　　(5)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。
 

　　2、偶然誤差的來源：
 

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因?yàn)楣怆姽庾V分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
 

　　(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
 

　　(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
 

　　(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時(shí)間太長和壓上指紋等因素。
 

　　(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差。